iTomic MW 系列批量式原子层沉积镀膜系统采用创新的批量型（ mini-batch ）腔体设计，可一次处理 25 片 12 英寸晶圆，适用于成膜镀率低，厚度要求高，以及产能要求高的关键工艺及应用。 iTomic MW 系列产品 利用特有的流场设计，具有成膜速度快，占地面积小，产能高、 使用成本 低等优势，为存储芯片以及M icro-OLED 显示器、 MEMS 等提供定制化量产的解决方案。

1、25 片 12 寸晶圆（兼容 8 寸晶圆） MW ALD 系统，适用于厚膜或生长率较低的工艺需求；

2、提供优异的薄膜片内（ WiW ）和片间（ WtW ）均匀性，更好地满足客户制程工艺需求；

3、薄膜材料： Al ₂ O ₃ 、 HfO ₂ 、 SiO ₂ 等；

4、与炉管型 设备相比， MW ALD 系列在减少颗粒度的同时大大降低了热过程，避免芯片器件在制程中的热损伤。