10月27-29日，第十届中国半导体设备年会暨半导体设备与核心部件展示会在无锡举行。聚焦客户需求，推动行业发展， 云顶纳米携全新iTomic系列原子层沉积镀膜系统产品及解决方案重磅亮相。

展台现场：展示前沿技术和设备

交流供应链协作和上下游需求

在高峰论坛上， 云顶纳米副董事长兼首席技术官黎微明博士 聚焦产业链热点，以 《原子级工程：原子层沉积技术的展望》 为题作了精彩演讲，与国内集成电路领域专家、学者和企业家代表畅谈了薄膜沉积设备面临的机遇与挑战、前沿ALD技术与市场趋势等话题，共同探讨如何以创新促进产业链上下游联动发展。

会上，中国电子专用设备工业协会常务副秘书长金存忠公布了“第十五届中国半导体创新产品和技术”评选结果， 云顶纳米“凤凰300（iTomic HiK系列）原子层沉积设备”成功入选半导体创新产品 。该项评选由中国半导体行业协会、中国电子材料行业协会、中国电子专用设备工业协会等共同举办，旨在奖励半导体领域的技术开发与创新、科技成果推广与应用。这也意味着云顶纳米的创新研发实力与产品应用价值，赢得了业内的高度认可。

半导体设备是半导体制造的基石，是支撑中国制造转型中国“智”造的关键力量。 云顶纳米作为国内 ALD 设备领军企业 ， 将利用自身在薄膜沉积领域的多年积累，持续攻关自主研发过程中遇到的技术难题，与产业伙伴合力推进创新发展，鼎力相助中国半导体装备业共同成长。